SENTECH光譜橢偏儀的型號技術(shù)參數及應用 |
點(diǎn)擊次數:148 更新時(shí)間:2025-01-21 |
SENTECH光譜橢偏儀的型號技術(shù)參數及應用 SENTECH是一家專(zhuān)注于光譜橢偏儀研發(fā)和生產(chǎn)的公司,其產(chǎn)品廣泛應用于薄膜、材料分析等領(lǐng)域。以下是幾種SENTECH光譜橢偏儀的型號、技術(shù)參數及應用。 1. SENresearch - 光譜范圍:190nm–2500nm - 測量速度:快速 - 測量精度:高 - 應用: - 薄膜厚度測量 - 折射率測量 - 吸收系數測量 - 材料性質(zhì)描述,如材料組分、折射率梯度、表面和界面粗糙層、各向異性材料和多層膜 - 分析不理想的樣品,如退偏效應,非均勻樣品,散射和背板反射 - 地貌圖掃描選項,支持對復雜多層膜樣品在全波段快速測量并分析其均勻性。 2. SENpro - 光譜范圍:370到1050nm - 測量速度:快速 - 操作:簡(jiǎn)單 - 數據分析:直觀(guān) - 應用: - 測量單層和多層膜的厚度和光學(xué)常數 - 成本效益高,適合預算有限的研究和工業(yè)應用 - 自動(dòng)掃描功能,支持均勻性測量。 3. SENDURO - 光譜范圍:未明確給出,但適用于透明和反射基片上單層薄膜和層疊膜的測量 - 測量速度:快速,總時(shí)間只需幾秒鐘 - 自動(dòng)化程度:高,全自動(dòng)模式,自動(dòng)對準傳感器 - 應用: - 質(zhì)量控制和研發(fā)中的常規應用 - 生產(chǎn)和工藝監控 - 半導體上的介質(zhì)膜到玻璃上的多層光學(xué)涂層的測量 - 預定義或用戶(hù)定義的自動(dòng)掃描模式,允許廣泛的統計特性和數據圖形顯示。 4. SER 800 PV - 光譜范圍:未明確給出,但優(yōu)化用于光伏應用 - 測量靈敏度:高 - 去偏振校正:具備 - 應用: - 光伏應用中的紋理晶體和多晶硅太陽(yáng)能電池上抗反射涂層和功能層的測量 - 單片薄膜和多層堆疊物的測量 - 公式模式特別適用于質(zhì)量控制中所需的常規應用。 5. SENresearch 4.0 - 光譜范圍:190nm(深紫外)到3500nm(近紅外)- 測量精度:高 - 應用: - 光譜橢偏儀,適用于全穆勒矩陣、各向異性、廣義橢偏、散射測量等 - 寬光譜范圍和高光譜精度,適用于多種材料和薄膜的測量。 總結 SENTECH光譜橢偏儀系列涵蓋了從基礎研究到工業(yè)應用的多種需求,具有廣泛的光譜范圍、快速的測量速度和高精度的特點(diǎn)。這些儀器在薄膜、材料分析、光伏應用等領(lǐng)域有著(zhù)廣泛的應用,能夠滿(mǎn)足不同用戶(hù)的需求。 |