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赫爾納供應德國microchemicals蝕刻劑25° C 時(shí)的蝕刻速率約為每分鐘 0.3-0.4 µm。我們建議在 8-16% (30%) 的存在下執行蝕刻過(guò)程。如果不添加過(guò)氧化氫，蝕刻速率會(huì )顯著(zhù)降低且不均勻。
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